未経験歓迎※秋田県◆åŠå°Žä½“(プロセス開発・デãƒã‚¤ã‚¹é–‹ç™ºï¼‰ï¼å¤§æ‰‹ãƒ¡ãƒ¼ã‚«ãƒ¼ã‚’中心ã«ç´„500社ã¨å–引有ã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€æœªçµŒé¨“者歓迎】ã€ç¬¬äºŒæ–°å’・既å’者å¯ã€‘ã€å­¦æ­´ä¸å•】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€ç”£ä¼‘・育休å–得実績】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚り】ã€ç§‹ç”°çœŒã€‘

ノード(3nmï¼5nm)å‘ã‘FEOLï¼BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッãƒãƒ³ã‚°ãƒ»CVDï¼ALDã®æ¡ä»¶å‡ºã—・歩留改善 â—‡SiCï¼GaNパワーデãƒã‚¤ã‚¹ï¼ˆMOSFETï¼HEMT)ã®ãƒ—ロセス設計 â—‡EUV露光装置ã®è©•価・パラメータ最é©åŒ– â—‡åŠå°Ž...

Lugar: Akita | 06/06/2026 02:06:20 AM | Salario: S/. No Especificado

秋田県◆åŠå°Žä½“(プロセス開発・デãƒã‚¤ã‚¹é–‹ç™ºï¼‰ï¼å¤§æ‰‹ãƒ¡ãƒ¼ã‚«ãƒ¼ã¨å–引多数ã‚ã‚Šï¼æ¡ˆä»¶æ•°æ±æ—¥æœ¬ãƒˆãƒƒãƒ—クラスã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€ç¬¬äºŒæ–°å’・既å’者å¯ã€‘ã€å­¦æ­´ä¸å•】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€ç”£ä¼‘・育休å–得実績】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚り】ã€ç§‹ç”°çœŒã€‘

ノード(3nmï¼5nm)å‘ã‘FEOLï¼BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッãƒãƒ³ã‚°ãƒ»CVDï¼ALDã®æ¡ä»¶å‡ºã—・歩留改善 â—‡SiCï¼GaNパワーデãƒã‚¤ã‚¹ï¼ˆMOSFETï¼HEMT)ã®ãƒ—ロセス設計 â—‡EUV露光装置ã®è©•価・パラメータ最é©åŒ– â—‡åŠå°Ž...

Lugar: Akita | 06/06/2026 02:06:01 AM | Salario: S/. No Especificado

ã€æ±äº¬ï¼å¤šæ‘©å¸‚】ãƒã‚¤ãƒ‘ワー電æºãƒ¦ãƒ‹ãƒƒãƒˆè¨­è¨ˆæ¥­å‹™â€»å……実ã®ç¦åˆ©åŽšç”Ÿãƒ»ç ”ä¿®åˆ¶åº¦ï¼ãƒ—ライム上場Gã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€ãƒ•レックスタイム制】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€åœŸæ—¥ç¥æ—¥ä¼‘ã¿ã€‘ã€å®Œå…¨é€±ä¼‘2日制】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚ã‚Šã€‘ã€æ±äº¬éƒ½ã€‘

学校å’以上 <応募資格/応募æ¡ä»¶ï¼ž â– å¿…é ˆæ¡ä»¶ï¼š ・数k〜数10kWã®ãƒ‘ワエレ機器開発ã®è¨­è¨ˆ ■歓迎æ¡ä»¶ï¼š ・パワーåŠå°Žä½“(SiC/IGBT)使用経験...

Lugar: Tokyo | 06/06/2026 02:06:35 AM | Salario: S/. No Especificado

宮城県◆åŠå°Žä½“(プロセス開発・デãƒã‚¤ã‚¹é–‹ç™ºï¼‰ï¼å¤§æ‰‹ãƒ¡ãƒ¼ã‚«ãƒ¼ã¨å–引多数ã‚ã‚Šï¼æ¡ˆä»¶æ•°æ±æ—¥æœ¬ãƒˆãƒƒãƒ—クラスã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€ç¬¬äºŒæ–°å’・既å’者å¯ã€‘ã€å­¦æ­´ä¸å•】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€ç”£ä¼‘・育休å–得実績】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚り】ã€å®®åŸŽçœŒã€‘

ノード(3nmï¼5nm)å‘ã‘FEOLï¼BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッãƒãƒ³ã‚°ãƒ»CVDï¼ALDã®æ¡ä»¶å‡ºã—・歩留改善 â—‡SiCï¼GaNパワーデãƒã‚¤ã‚¹ï¼ˆMOSFETï¼HEMT)ã®ãƒ—ロセス設計 â—‡EUV露光装置ã®è©•価・パラメータ最é©åŒ– â—‡åŠå°Ž...

Lugar: Miyagi | 06/06/2026 02:06:20 AM | Salario: S/. No Especificado

未経験歓迎※北海é“â—†åŠå°Žä½“(プロセス開発・デãƒã‚¤ã‚¹é–‹ç™ºï¼‰ï¼å¤§æ‰‹ãƒ¡ãƒ¼ã‚«ãƒ¼ã‚’中心ã«ç´„500社ã¨å–引有ã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€æœªçµŒé¨“者歓迎】ã€ç¬¬äºŒæ–°å’・既å’者å¯ã€‘ã€å­¦æ­´ä¸å•】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€ç”£ä¼‘・育休å–得実績】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚り】ã€åŒ—æµ·é“】

ノード(3nmï¼5nm)å‘ã‘FEOLï¼BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッãƒãƒ³ã‚°ãƒ»CVDï¼ALDã®æ¡ä»¶å‡ºã—・歩留改善 â—‡SiCï¼GaNパワーデãƒã‚¤ã‚¹ï¼ˆMOSFETï¼HEMT)ã®ãƒ—ロセス設計 â—‡EUV露光装置ã®è©•価・パラメータ最é©åŒ– â—‡åŠå°Ž...

Lugar: Hokkaido | 06/06/2026 02:06:14 AM | Salario: S/. No Especificado

山形県◆åŠå°Žä½“(プロセス開発・デãƒã‚¤ã‚¹é–‹ç™ºï¼‰ï¼å¤§æ‰‹ãƒ¡ãƒ¼ã‚«ãƒ¼ã¨å–引多数ã‚ã‚Šï¼æ¡ˆä»¶æ•°æ±æ—¥æœ¬ãƒˆãƒƒãƒ—クラスã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€ç¬¬äºŒæ–°å’・既å’者å¯ã€‘ã€å­¦æ­´ä¸å•】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€ç”£ä¼‘・育休å–得実績】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚り】ã€å±±å½¢çœŒã€‘

ノード(3nmï¼5nm)å‘ã‘FEOLï¼BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッãƒãƒ³ã‚°ãƒ»CVDï¼ALDã®æ¡ä»¶å‡ºã—・歩留改善 â—‡SiCï¼GaNパワーデãƒã‚¤ã‚¹ï¼ˆMOSFETï¼HEMT)ã®ãƒ—ロセス設計 â—‡EUV露光装置ã®è©•価・パラメータ最é©åŒ– â—‡åŠå°Ž...

Lugar: Yamagata | 06/06/2026 02:06:58 AM | Salario: S/. No Especificado

未経験歓迎※山形県◆åŠå°Žä½“(プロセス開発・デãƒã‚¤ã‚¹é–‹ç™ºï¼‰ï¼å¤§æ‰‹ãƒ¡ãƒ¼ã‚«ãƒ¼ã‚’中心ã«ç´„500社ã¨å–引有ã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€æœªçµŒé¨“者歓迎】ã€ç¬¬äºŒæ–°å’・既å’者å¯ã€‘ã€å­¦æ­´ä¸å•】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€ç”£ä¼‘・育休å–得実績】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚り】ã€å±±å½¢çœŒã€‘

ノード(3nmï¼5nm)å‘ã‘FEOLï¼BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッãƒãƒ³ã‚°ãƒ»CVDï¼ALDã®æ¡ä»¶å‡ºã—・歩留改善 â—‡SiCï¼GaNパワーデãƒã‚¤ã‚¹ï¼ˆMOSFETï¼HEMT)ã®ãƒ—ロセス設計 â—‡EUV露光装置ã®è©•価・パラメータ最é©åŒ– â—‡åŠå°Ž...

Lugar: Yamagata | 06/06/2026 02:06:45 AM | Salario: S/. No Especificado

岩手県◆åŠå°Žä½“(プロセス開発・デãƒã‚¤ã‚¹é–‹ç™ºï¼‰ï¼å¤§æ‰‹ãƒ¡ãƒ¼ã‚«ãƒ¼ã¨å–引多数ã‚ã‚Šï¼æ¡ˆä»¶æ•°æ±æ—¥æœ¬ãƒˆãƒƒãƒ—クラスã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€ç¬¬äºŒæ–°å’・既å’者å¯ã€‘ã€å­¦æ­´ä¸å•】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€ç”£ä¼‘・育休å–得実績】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚り】ã€å²©æ‰‹çœŒã€‘

ノード(3nmï¼5nm)å‘ã‘FEOLï¼BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッãƒãƒ³ã‚°ãƒ»CVDï¼ALDã®æ¡ä»¶å‡ºã—・歩留改善 â—‡SiCï¼GaNパワーデãƒã‚¤ã‚¹ï¼ˆMOSFETï¼HEMT)ã®ãƒ—ロセス設計 â—‡EUV露光装置ã®è©•価・パラメータ最é©åŒ– â—‡åŠå°Ž...

Lugar: Iwate | 06/06/2026 02:06:37 AM | Salario: S/. No Especificado

é’æ£®çœŒâ—†åŠå°Žä½“(プロセス開発・デãƒã‚¤ã‚¹é–‹ç™ºï¼‰ï¼å¤§æ‰‹ãƒ¡ãƒ¼ã‚«ãƒ¼ã¨å–引多数ã‚ã‚Šï¼æ¡ˆä»¶æ•°æ±æ—¥æœ¬ãƒˆãƒƒãƒ—クラスã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€ç¬¬äºŒæ–°å’・既å’者å¯ã€‘ã€å­¦æ­´ä¸å•】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€ç”£ä¼‘・育休å–得実績】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚り】ã€é’森県】

ノード(3nmï¼5nm)å‘ã‘FEOLï¼BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッãƒãƒ³ã‚°ãƒ»CVDï¼ALDã®æ¡ä»¶å‡ºã—・歩留改善 â—‡SiCï¼GaNパワーデãƒã‚¤ã‚¹ï¼ˆMOSFETï¼HEMT)ã®ãƒ—ロセス設計 â—‡EUV露光装置ã®è©•価・パラメータ最é©åŒ– â—‡åŠå°Ž...

Lugar: Aomori | 06/06/2026 02:06:48 AM | Salario: S/. No Especificado

未経験歓迎※ç¦å³¶çœŒâ—†åŠå°Žä½“(プロセス開発・デãƒã‚¤ã‚¹é–‹ç™ºï¼‰ï¼å¤§æ‰‹ãƒ¡ãƒ¼ã‚«ãƒ¼ã‚’中心ã«ç´„500社ã¨å–引有ã€ã‚¨ãƒ¼ã‚¸ã‚§ãƒ³ãƒˆã‚µãƒ¼ãƒ“ã‚¹æ±‚äººã€‘ã€æ­£ç¤¾å“¡ã€‘ã€äººææ´¾é£ãƒ»äººæç´¹ä»‹ã€‘ã€æœªçµŒé¨“者歓迎】ã€ç¬¬äºŒæ–°å’・既å’者å¯ã€‘ã€å­¦æ­´ä¸å•】ã€å¹´é–“休日120日以上】ã€ç”£ä¼‘・育休å–得実績】ã€å¥³æ€§æ´»èºä¸­ã€‘ã€é€€è·é‡‘制度ã‚り】ã€ç¤¾å®…・寮・ä½å®…補助ã‚り】ã€ç¦å³¶çœŒã€‘

ノード(3nmï¼5nm)å‘ã‘FEOLï¼BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッãƒãƒ³ã‚°ãƒ»CVDï¼ALDã®æ¡ä»¶å‡ºã—・歩留改善 â—‡SiCï¼GaNパワーデãƒã‚¤ã‚¹ï¼ˆMOSFETï¼HEMT)ã®ãƒ—ロセス設計 â—‡EUV露光装置ã®è©•価・パラメータ最é©åŒ– â—‡åŠå°Ž...

Lugar: Fukushima | 06/06/2026 02:06:30 AM | Salario: S/. No Especificado