ノード(3nm/5nm)向けFEOL/BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッチング・CVD/ALDの条件出し・歩留改善 ◇SiC/GaNパワーデバイス(MOSFET/HEMT)のプロセス設計 ◇EUV露光装置の評価・パラメータ最適化 ◇半導...
Lugar:
Aomori | 06/06/2026 02:06:49 AM | Salario: S/. No Especificado
ノード(3nm/5nm)向けFEOL/BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッチング・CVD/ALDの条件出し・歩留改善 ◇SiC/GaNパワーデバイス(MOSFET/HEMT)のプロセス設計 ◇EUV露光装置の評価・パラメータ最適化 ◇半導...
Lugar:
Miyagi | 06/06/2026 02:06:20 AM | Salario: S/. No Especificado
ノード(3nm/5nm)向けFEOL/BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッチング・CVD/ALDの条件出し・歩留改善 ◇SiC/GaNパワーデバイス(MOSFET/HEMT)のプロセス設計 ◇EUV露光装置の評価・パラメータ最適化 ◇半導...
Lugar:
Akita | 06/06/2026 02:06:57 AM | Salario: S/. No Especificado
ノード(3nm/5nm)向けFEOL/BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッチング・CVD/ALDの条件出し・歩留改善 ◇SiC/GaNパワーデバイス(MOSFET/HEMT)のプロセス設計 ◇EUV露光装置の評価・パラメータ最適化 ◇半導...
Lugar:
Iwate | 06/06/2026 02:06:32 AM | Salario: S/. No Especificado
ノード(3nm/5nm)向けFEOL/BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッチング・CVD/ALDの条件出し・歩留改善 ◇SiC/GaNパワーデバイス(MOSFET/HEMT)のプロセス設計 ◇EUV露光装置の評価・パラメータ最適化 ◇半導...
Lugar:
Aomori | 06/06/2026 02:06:38 AM | Salario: S/. No Especificado
ノード(3nm/5nm)向けFEOL/BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッチング・CVD/ALDの条件出し・歩留改善 ◇SiC/GaNパワーデバイス(MOSFET/HEMT)のプロセス設計 ◇EUV露光装置の評価・パラメータ最適化 ◇半導...
Lugar:
Yamagata | 06/06/2026 02:06:31 AM | Salario: S/. No Especificado
ノード(3nm/5nm)向けFEOL/BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッチング・CVD/ALDの条件出し・歩留改善 ◇SiC/GaNパワーデバイス(MOSFET/HEMT)のプロセス設計 ◇EUV露光装置の評価・パラメータ最適化 ◇半導...
Lugar:
Iwate | 06/06/2026 02:06:58 AM | Salario: S/. No Especificado
ノード(3nm/5nm)向けFEOL/BEOLプロセス開発 ◇リソグラフィ・エッチング・CVD/ALDの条件出し・歩留改善 ◇SiC/GaNパワーデバイス(MOSFET/HEMT)のプロセス設計 ◇EUV露光装置の評価・パラメータ最適化 ◇半導...
Lugar:
Fukushima | 06/06/2026 02:06:54 AM | Salario: S/. No Especificado
(SiC/GaN) technologies. Proven track record of selling into the Japanese Industrial, Energy, or Power Supply markets...
Lugar:
Tokyo | 05/06/2026 23:06:08 PM | Salario: S/. No Especificado | Empresa:
Wolfspeed dựng sự nghiệp lâu dài tại Nhật Bản. Tôi chưa tự tin với tiếng Nhật... Tôi muốn tìm việc gần nơi ở... Tôi muốn công...